エキシマレーザーの実行可能な代替品としての Nd:YAG 赤外レーザー: YBCO のケーススタディ

Scientific Reports volume 13、記事番号: 3882 (2023) この記事を引用

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私たちは、エピタキシャル YBa\(_{2}\)Cu\(_{3}\)O\(_{7-\delta }\) (YBCO) 複合酸化物薄膜と関連するヘテロ構造の成長と特性評価についてのみ報告します。パルスレーザー蒸着 (PLD) によって、第一高調波 Nd:Y\(_{3}\)Al\(_{5}\)O\(_{12}\) (Nd:YAG) パルスレーザーソース (\ (\ラムダ\) = 1064 nm)。高品質のエピタキシャル YBCO 薄膜ヘテロ構造は、転移温度 \(\sim\) 80 K の超伝導特性を示します。エキシマレーザーと比較して、Nd:YAG レーザーを使用すると、ターゲットから基板までの距離が広い場合に最適な成長条件が達成されます。距離ｄ．これらの結果は、PLD 薄膜コミュニティにおけるエキシマレーザーの代替として、第一高調波 Nd:YAG レーザー源の使用の可能性を明確に示しています。そのコンパクトさと有毒ガスに関連する安全性の問題がないことは、薄膜の形態での複雑な多元素化合物の堆積における大きな進歩となります。

酸化物ペロブスカイト薄膜は、陽イオン元素と酸素含有量を調整/ドーピングするだけで、エレクトロニクス、磁気、光学において無数の特性をもたらします1、2、3、4、5、6。パルスレーザー蒸着(PLD)は、超伝導YBa\(_{2}\)Cu\(_{3}\)の化学量論的転移の実証に成功した後、酸化物コミュニティにおける最先端の薄膜成長施設となった波長 \(\lambda\) = 248 nm の KrF エキシマレーザーによる O\(_{7-\delta }\) (YBCO) 複合酸化物7。それ以来、KrF エキシマレーザーは、非常に高品質の複合酸化物薄膜を成長させるための主要なツールとして台頭し、基礎材料研究からデバイス用の高度な半導体製造産業まで幅広い用途で使用されています 12、13、14。しかし、世界中の PLD 研究室でのエキシマレーザーの使用に関しては、厳しい制限が生じています。エキシマレーザーは主に希ガスの混合物 (96% Ne、3.5% Kr/Ar) で構成され、残りの 0.05% は放電室内に存在する He のハロゲン (つまり F/Cl) 混合物に属します。エキシマレーザーの使用は、しばしば安全上の問題（例えば、猛毒ガスの存在）についての懸念を引き起こし、そのため、その使用を可能にするために高価なインフラストラクチャーが必要となる。さらに、需要の高まりと希ガス資源の不足により、KrF プレミックスガス混合物のコストはここ数年で大幅に上昇しています。この点で、消費量を削減するために、産業界はこれらのガスをリサイクルする方法も取り入れており、安定したレーザーエネルギー出力で最大 85% のガスリサイクル率を達成しています15。しかし、ここ数年、予混合ガス混合物の待ち時間が大幅に増加しているため、日常業務のスムーズな流れが妨げられるだけでなく、レーザーのメンテナンス費用も大幅に増加しています。

エキシマレーザー用の希ガス混合物が入手できないために発生するコストと長い待ち時間を削減するために、材料科学者は固体 Nd:Y\(_{3}\)Al\(_{5} PLD 成長プロセスにおける \)O\(_{12}\) (Nd:YAG) レーザー。 Nd:YAG レーザーは、高エネルギーのレーザー放射の生成に無機結晶を使用するため、有毒ガスの存在に関する安全性の問題が排除されます。 Nd:YAG レーザーの基本周波数は、光スペクトルの赤外 (IR) 領域の 1064 nm ですが、光調和結晶発生器を導入することにより、レーザーの波長を紫外 (UV) 領域に押し上げることができます。、266 nm (第 4 高調波) と 213 nm (第 5 高調波) は、エキシマレーザーの波長を模倣します。高調波発生器の使用により、酸化物薄膜の成長は成功しましたが16、17、18、高調波発生器の使用によるレーザー出力エネルギーの大幅な減少などの制限があり、ターゲットの不適合なアブレーション19や不均一性を引き起こす可能性があることが知られています。レーザービームプロファイルの違いにより、エキシマレーザーに対する魅力が低下しています。

全体的なレーザービームプロファイル20の均一性やレーザーエネルギーの高い安定性など、Nd:YAGレーザーにおける最近の技術進歩を活用することで、基本高調波のみを使用して化学量論的で高品質な複合酸化物薄膜を成膜することができました。 1064nm。特に、Nd:YAG レーザー技術の大幅な向上により、非常に滑らかなフィルムを製造し、フィルム表面上の液滴の数を回避/最小限に抑えることが可能になりました。これまでの研究では、TiO\(_{2}\)20 や V\(_{2}\)O\( などのエピタキシャル単純酸化物の成長における基本高調波 (1064 nm) の利用を実証することに成功しました。 _{3}\)21、22、23、24。走査トンネル顕微鏡 (STM) および角度分解光電子放出分光法 (ARPES) の実験では、KrF エキシマレーザーで成長させた同じ材料と比較した場合、Nd:YAG レーザーで作成された薄膜の表面品質が優れていることが示されました 25、26、27、28。。この論文では、基本高調波で動作する Nd:YAG レーザーのさらに別の潜在的なアプリケーション、つまり、YBCO や LaNiO\(_{3}\) (LNO) などの複合酸化物ペロブスカイト系の化学量論的転写を紹介します。非常に高品質の複合酸化物の成長にこの種のレーザーを使用することは、非常に低いメンテナンスコストと有毒ガスの存在に関する安全性の問題が無視できる程度のPLD施設のプロジェクトと実現における画期的な成果となります。

Nd:YAG レーザー光源を使用した PLD システムの概略図を図 1 に示します。非常に大きく重いキャビネット (例: 1182 \(\times\) 375 \(\times\)) を特徴とする KrF エキシマレーザーとは異なります。長さ 793 mm、重量 275 kg）なので、Nd:YAG レーザーのレーザーヘッドを入口窓のすぐ前に配置できます。典型的な Nd:YAG レーザーヘッドの寸法/重量が大幅に小さいため、このような可能性が許容されます。たとえば、私たちの研究室で使用されている Innolas SpitLight Compact 400 のレーザーヘッドは、390 \(\times\) 135 \(\times\) 91 mm ((L \(\times\) W \(\times\) H) です。総重量約10kgの寸法です。

Nd:YAG レーザー、レーザーマスク、およびフォーカスレンズを備えた当社の PLD システムの概略図 (a) (KrF エキシマレーザーの一般的なレーザー経路も示されています。レーザーヘッドの位置決めの他の可能な幾何学的構成 (b および c)) 。

したがって、その位置決めには、堆積チャンバー内でレーザーパルスをガイドするための反射鏡の使用が必要ないため、図1のa、b、およびcにそれぞれ示されている上面または平面などのあらゆる可能な形状が可能になります。。さらに、レーザーの全出力エネルギーの使用が許可されます。レーザー出力エネルギーは約 700 mJ に固定され、ビーム直径は約 6 mm、最大繰り返し率は 10 Hz です。光学キャビティの開口部と所定時間当たりの実際のレーザーショット数を調整することで、より小さな繰り返し率を簡単に得ることができます。レーザーパルスのエネルギーの非常に高い安定性 (つまり \(< 0.7\%\) ) により、アブレーションレートが時間の経過とともに非常に安定していることを強調することが重要です。

レーザー出力エネルギーが制御可能な KrF エキシマレーザーとは対照的に、エピタキシャル薄膜の成長/最適化に特定のプロセスプロトコルを採用することで、Nd:YAG レーザーのエネルギー調整能力の欠如が回避されています。実際、レーザーパルスの総フルエンスを低減するために、可変直径の穴（たとえば、1\(-\)2 mm以上/より小さい）を備えたアルミナセラミック片がレーザーマスクとして使用されます。その後、入射角 45\(^{\circ }\) でレーザーパルスの焦点をターゲットに合わせるために、レーザー光路に焦点レンズが配置されます。

YBCO は銅酸化物族に属し、約 \(\sim\) 90 K という高い超伝導臨界温度 T\(_{c}\) でよく知られています。バルク YBCO は斜方晶系の結晶構造 (a = 0.384 nm、 b = 0.393 nm、c = 1.182 nm、\(\alpha = \beta = \gamma = 90^{\circ }\)) であり、空間群は Pmmm29 に属します。ただし、超電導特性を実現するには、高品質のエピタキシャル YBCO 薄膜を成長させることが最優先です。ＰＬＤ技術およびＫｒＦエキシマレーザーのみを使用して、さまざまな基板上に非常に高品質のＹＢＣＯのエピタキシャル薄膜を成長させるいくつかの研究がすでに行われている。エキシマレーザーの使用の代替として、Nd:YAG レーザーを使用して SrTiO\(_{3}\) または MgO 基板上にエピタキシャル YBCO 薄膜を堆積することを試みたグループはほとんどありません (\(\lambda \)=355 nm)30 または 4 次 (\(\lambda\)=266 nm)16、31、32 高調波をそれぞれパルスレーザー源として使用し、どちらも放射スペクトルの UV 範囲に属します。

これまでの研究とは対照的に、ここでは、Nd:YAG レーザーを基本高調波 (つまり、\(\lambda\)=1064 nm) で動作するパルスレーザー源として再度使用し、エピタキシャル YBCO 膜の成長を実証しました。 LaAlO\(_{3}\) (LAO) [0 0 1] 基板上。 YBCO フィルムの結晶学的特性は、X 線回折 (XRD) によってチェックされました。図 2 では、典型的な対称 \(\theta -2\theta\) スキャンでは \(\blacklozenge\) で示される YBCO (0 0 l) ピークのみが示されており、c 軸方向に沿った高度にテクスチャーのある成長を示しています。 LAO 基質のピーク (\(\ひし形\) で示される) 以外には、不純物ピークや二次相の痕跡は観察できません。

\(\theta -2\theta\) LAO [0 0 1] 基板上に成長させた YBCO 膜の XRD スキャン。

(0 0 2) ブラッグ反射から計算された面外格子パラメータは \(\sim\) 1.176 nm であり、そのバルク格子定数に非常に近い 29。堆積後の熱処理の効果を評価するために、成長したままの YBCO 膜の輸送特性とさまざまなポストアニーリング条件を 4 プローブ法で調査しました。

成長したままのサンプルは、T\(_{c} \sim\) 8 K という非常に低い値を示しました。この特徴は、低い酸素析出圧力、つまり 5 \(\times \,10^{-2}\) によって説明できます。このため、YBCO 成長後の膜に酸素欠損が生じます。酸素欠損を補うために、膜は異なるアニーリング温度と酸素圧力条件でポストアニーリングされました。穏やかにポストアニール (500 \(^{\circ }\)C、100 mbar 酸素、60 分) を施した膜では、T\(_{c}\) が 8 K から 62 K に向上しました。極端なポストアニーリング（600 \(^{\circ }\)C、300 mbar 酸素、60 \(-\) 80 分）を受けた膜は、直線的な傾きを持つ典型的な超電導挙動を示し、その T\(_{c }^{onset}\) は 55 K から 93 K に増加し、膜内の酸素化が増加したことを示しています。

(a) KrF エキシマレーザーと (b および c) 第一高調波 Nd:YAG 固体レーザーを使用して成長させた YBCO 薄膜の SEM 画像を示します。 (d) 第一高調波 Nd:YAG レーザーで成長させた YBCO ターゲット (黒) と YBCO 膜 (赤) の EDS スペクトルの比較。

第一高調波 Nd:YAG レーザーで製造された薄膜の微細構造表面の品質を評価するために、従来の KrF エキシマレーザーと新世代 Nd:YAG 固体レーザーを使用して成長させた膜の走査型電子顕微鏡 (SEM) 画像を比較します。状態レーザーを図 3 に示します。PLD 成長 YBCO 膜に液滴が現れるという以前の報告 33,34,35 とは対照的に、図 3b に示すように、第一高調波 Nd:YAG レーザーで成長した YBCO 膜の表面品質は、 cは、KrFレーザーを使用して成長させた膜表面と同様に、滑らかで液滴がありません（図3aに示す）。元素の化学量論的移動は、図3dに示すように、YBCOターゲットとYBCO膜のエネルギー分散分光法（EDS）ラインプロファイルを比較することで検証できます。これらは、機器の制約内で同一です。 YBCO 膜の構造、超伝導特性、微細構造および組成分析により、新世代 Nd:YAG レーザーが従来の KrF レーザー光源と同等であることが明らかになりました。

第一高調波で動作する Nd:YAG レーザーによる多元素複合酸化物材料の一致したアブレーションをさらに評価するために、金属性の高い LaNiO\(_{3}\) (LNO) と絶縁性 CeO\(_{2}\ ）もＬＡＯ基板上に堆積された。 LNO はその金属的な性質により、技術的に最も重要な材料の 1 つであり、デバイスの対極として頻繁に使用されます 36、37、38。これとは異なり、絶縁性の CeO\(_{2}\) は、固体酸化物型燃料電池、水素製造のための水の分解、酸素センサーなど、多くの環境に優しい用途のために広く研究されているだけでなく、さまざまな用途で広く使用されています。薄膜の形態のYBCO成長のための機能バッファ層42。

LNO は格子定数 a = 0.54535 nm および c = 1.31014 nm の三方晶系 R-3c 空間群を持ちます 43 が、[012] 方向に沿って格子定数 0.383 nm のほぼ立方晶ペロブスカイト構造が確認できるため、容易に適応できます。ほとんどのペロブスカイト系に適用されます。 CeO\(_{2}\) のバルク構造は、格子定数 a = 0.54097 nm44 の立方晶蛍石タイプです。 CeO\(_{2}\) を LAO 上で成長させると、面内格子セルは 45\(^{\circ }\) 回転し、面内格子パラメータは約 0.38252 nm となり、これらに非常に近づきます。基板の厚さ（つまり、0.379 nm）。したがって、これらの材料は両方とも、超電導 YBCO 層をホストする多機能ヘテロ構造の成長における有望な候補です。広角 \(\theta -2\theta\) XRD スキャン (図 4 のパネル a および b) から、LNO 膜と CeO\(_{2}\) 膜の両方で、( 0 0 l) 二次不純物相の兆候のない反射。

LAO [0 0 1] 基板上に成長させた LNO (a) および CeO\(_{2}\) (b) 膜の \(\theta - 2\theta\) 面外 X 線回折。 (0 0 l) 回折ピークのみ。 LNO (c) と CeO\(_{2}\) (d) 膜の典型的な低角 X 線反射率曲線。\(2\theta\) of 4\(^{\circ }\) までの明確な振動を示します。 )–5\(^{\circ }\)。

LNO 膜の面外格子定数の計算値は \(\sim\) 0.391 nm であり、バルク格子定数よりも大きいため、LAO 基板によって加えられる圧縮歪みが確認されます。反対に、CeO\(_{2}\) 膜の面外格子定数は \(\sim\) 0.541 nm であるため、膜の実質的な緩和と基板誘起歪みの欠如が推測されます。基質によって引き起こされるメカニズム。

次に、図 4 のパネル (c) および (d) に示すように、膜厚とその表面粗さを低角 X 線反射率 (XRR) によって調査しました。低角 XRR のシミュレーションは、 XOP ソフトウェアの IMD パッケージ45、46。成長した層の厚さの評価に加えて、XRR 曲線は、表面粗さの直接的な推定値を提供します。表面粗さの強度は、その値がますます高くなります。 LNO の場合、XRR 振動は 2\(\theta\) 値から 5\(^{\circ }\) まで見られ、それを超えると振動は X 線回折計の実験感度を下回ります。。同様に、CeO\(_{2}\) 膜の場合、XRR 振動は 2\(\theta\) の値約 4.5\(^{\circ }\) まで記録され、LNO と同様にこの角度を超えると、振動は X 線回折計の実験感度を下回りました。 XRR フィッティングアルゴリズムは、ビームの横方向の不均一性が無視できる程度の単色化 X 線源に基づいていますが (実験室ベースの単色化されていない X 線ビームを使用しました)、そのため、表面の二乗平均平方根 (RMS) 粗さは\(\sim\)0.4 nm と推定され、これは約 1 つの LNO/CeO\(_{2}\) 単位胞に相当し、したがって両方の機能層の表面粗さが非常に低いと推測されます。

LNO は室温で金属であるため、低エネルギー電子回折 (LEED) および走査型トンネル顕微鏡 (STM) によって、LNO の構造的および電子的特性のより詳細な特性評価が得られます。図 5a は、膜内に二次相が存在しない正方格子面を示す非常に鋭い回折スポットを持つ LEED を示しています。さらに、LNOのその場STMトポグラフィー分析（図5b）は、RMS表面粗さがおよそ \(\sim\) 0.3 nm、つまり1単位セル未満の粗さに相当する、非常に平坦な膜表面を示しています。最後に、LNO膜上の温度依存性電気輸送測定（図5c）は、77 Kまでの金属挙動を示し、300 Kで測定された抵抗率は\(\sim\) 0.26 m\(\Omega\) cmです。 KrFレーザーで成長させた膜に匹敵します。

(a) 135 eV で撮影した LNO 膜の LEED は、正方格子の鋭い回折スポットを示します。(b) 膜の STM トポグラフィー、(c) 典型的な温度依存性の抵抗率。

これまで、個々の酸化物層のエピタキシャル成長を説明してきました。 Nd:YAG パルスレーザー光源の適応性と開発をさらに強調するために、YBCO、CeO\(_{2}\)、LNO の層で構成されるヘテロ構造スタック (図 6(c)) が LAO 上に堆積されました [ 0 0 1] 基板。各層の成長は最適な条件下で実行されました。すべての層は同じ基板温度、つまり 720\(^{\circ }\)C で堆積されましたが、各層の成長の酸素バックグラウンド圧力は異なりました。特に、LNO、CeO\(_{2}\)、および YBCO は 10\(^{-1}\)、5\(\times \,\,10^{-4}\) で成長しました。それぞれ 5\(\times \,\,10^{-2}\) ミリバール。 YBCO 機能層を酸素化するために、サンプルは 300 mbar の酸素雰囲気中、600 \(^{\circ }\)C で約 60 ～ 80 分間ポストアニールされました。

XRD を使用して、LAO 基板上に堆積されたヘテロ構造スタックの構造品質を評価しました。予想どおり、YBCO (\(\blacklozenge\))、CeO\(_{2}\) (\(\blacktriangle\))、および LNO (\(\blacktriangledown\)) の (0 0 l) 方向のピークのみが存在します。図6aでは層が見られ、すべての層について[0 0 1]結晶方向に沿った優先配向が確認されました。さらに、3 つの層に関連する回折ピーク以外に他の回折ピークが存在しないため、スプリアス相の存在は排除されました。

(a) LAO [0 0 1] 基板上に成長した YBCO/CeO\(_{2}\)/LNO ヘテロ構造の \(\theta -2\theta\) スキャン、(b) 断面 HAADF-STEM画像および(c) YBCO/CeO\(_{2}\)/LNO/LAOヘテロ構造スタックの概略図。 (d) T\(_{c}^{zero を表示する YBCO/CeO\(_{2}\) および YBCO/CeO\(_{2}\)/LNO スタックの室温正規化抵抗対温度挙動} \sim\) それぞれ 80 K と 70 K。

高角度環状暗視野 (HAADF) 走査型透過電子顕微鏡 (STEM) を使用して、フィルムのナノ構造を調査しました。図6bでは、膜のHAADF-STEM断面画像は、下にある基板と、およびさまざまな酸化物層間の、急激で高品質なエピタキシャル界面を強調しています。画像全体にわたるフィルムの構造は均一であり、重大な欠陥はありません。特に、液滴の分離の証拠は観察されませんでした。測定された酸化物層の厚さは、YBCO が 100 nm、CeO\(_{2}\) が 50 nm、LNO が 170 nm でした。図6dは、YBCO/CeO\(_{2}\)/LAOスタックとYBCO/CeO\(_{2}\)/LNO/LAOスタックの両方の温度依存性抵抗をそれぞれ示しています。抵抗は、室温から超電導転移温度まで抵抗率の線形依存性を示し、ほぼ最適にドープされたサンプルに典型的な上（下）方向の曲率の兆候はありません 47,48。 CeO\(_{2}\)緩衝LAO基板上に成長したYBCO層は約80Kで超電導性を示しましたが、CeO\(_{2}\)/LNO/LAOスタックのTcはわずかに70Kまで低下しました。この Tc の低下は、三層構造の構造欠陥に起因すると考えられます。それにもかかわらず、どちらの場合も、YBCO 上層の超電導相はゼロ抵抗への急激な移行を示します。

我々は、波長 \(\lambda\) = 1064 nm で動作する第一高調波 Nd:YAG レーザーを使用することにより、エピタキシャル複合酸化物薄膜の成長プロトコルを確立することに成功しました。レーザーの安定性、均一性、寿命などの新世代固体レーザーの特性により、再現性の高い良質な酸化膜が得られます。光高調波発生器もエキシマレーザーの貴ガスと有毒ガスの混合物も必要ないため、全体のメンテナンスコストが大幅に削減され、さらに環境に優しいです。その結果、第一高調波 Nd:YAG 固体レーザーは、間違いなく酸化物薄膜の堆積用として従来のエキシマレーザーの強力な代替品となります。

Nd:YAG 基本高調波 (\(\lambda\) = 1064 nm) は、三元複合酸化物系の堆積用のパルスレーザー源として使用されました。レーザーショットの元のスポットサイズは直径約 6 mm、典型的なエネルギーは 700 mJ で、集束されていないビームのエネルギー密度は約 2.5 J cm\(^{-2}\) に相当します。レーザースポットの周辺領域を避けることと、レーザーショットあたりの成長速度を下げるという 2 つの目的から、光学マスクを使用してスポットサイズを直径 6 mm から 2 mm に縮小しました。

YBCO、LNO、およびCeO\(_{2}\)のエピタキシャル薄膜を、第一高調波で動作するNd:YAG固体レーザーによってLAO[0 0 1]基板上に堆積させた。すべての膜は 720 \(^{\circ }\)C の基板温度で、1 Hz のレーザー繰り返し率を使用して堆積されました。典型的な堆積速度は約 0.35 nm min\(^{-1}\) でした。堆積後、YBCO 薄膜はさまざまなアニール温度 (500 \(^{\circ }\)C および 600 \(^{\circ }\)C) および酸素圧力 (100 mbar および 300 mbar) でポストアニールされました。約60〜80分間。典型的なターゲットから基板までの距離 d が 4 ～ 5 cm に維持される KrF エキシマレーザーによって堆積された膜と比較して、Nd によって堆積された膜では約 8 ～ 10 cm の d 値で最適な成長条件が得られました。ヤグレーザー。

膜の結晶構造、厚さ、および表面粗さは、Cu K\(_{\alpha _{1}}\) 線源を備えた 4 円 Panalytical X'pert 回折計によって検査されました。表面形態と長距離結晶秩序は、それぞれその場STMとLEEDによって調査されました。標準的な 4 プローブ Van-der-Paw 法を使用して、フィルムの温度依存性電気輸送特性を調査しました。

YBCO フィルムの表面形態は、Gemini カラムとレンズ内検出器を備えた Supra 40 電界放出銃 (FEG) 走査型電子顕微鏡 (SEM) を使用して研究され、信号対雑音比が向上しました。サンプルの化学組成は、Oxford LN2 フリー X-Act シリコンドリフト検出器を使用したエネルギー分散分光法 (EDS) 実験によって分析されました。次に、結果は Aztec ソフトウェアを使用して処理され、サンプルの化学組成が計算されました。

HAADF-STEM 実験は、電界放出銃を備え、200 kV で動作する JEOL 2010 UHR TEM を使用して実行されました。顕微鏡データ分析は、Gatan Microscopy Suite 3.20.1314.0 (GMS) を使用して実行されました。 HAADF-STEM 画像は、照明角 12 mrad、集光角 88 \(\le 2\theta \le\)234 mrad を使用して取得されました。断面 TEM サンプルは、従来の研磨技術とそれに続く Ar イオンによるディンプル加工およびミリングを使用して準備されました。この準備手順は、断面 TEM サンプルの構造的および化学的変更を最小限に抑えることが証明されており、他の酸化物薄膜システムへの適用に成功しています 49,50,51。

現在の研究中に生成されたデータセット、および/または現在の研究中に分析されたデータセットは、合理的な要求に応じて責任著者から入手できます。

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この研究は、ナノサイエンス鋳造および精密分析 (NFFA-MUR Italy Progetti Internazionali) 施設の枠組みで実施されました。現在の材料科学研究は、このテーマに関する実りある科学的議論に感謝する D.Fausti の責任の下、中赤外分光法を目的とした NFFA 提案のニーズを満たすために開発されました。 SPC と PR は、イタリアのトリエステにあるイタリア研究所でのトレーニングと研究のための ICTP プログラムからフェローシップを受け取ったことを認めます。

CNR-IOM マテリアルワークショップ研究所、TASC 研究所、エリアサイエンスパーク、ss14 km 163.5、34149、トリエステ、イタリア

サンディープ・クマール・チャルヴァディ、シャイニ・プナトゥム・チャリル、フェデリコ・マッツォーラ、シモーネ・ドラベッラ、ピウ・ラジャック、マルチェロ・フェラーラ、レジーナ・シアンシオ、藤井淳、ジャンカルロ・パナッチョーネ、ジョルジオ・ロッシ、パスカーレ・オルジャーニ

理論物理学国際センター (ICTP)、Strada Costiera 11、34151、トリエステ、イタリア

シャイニ・プナトゥム・チャリル＆ピウ・ラジャック

AREA Science Park、Padriciano 99、34139、トリエステ、イタリア

チャンシオ王妃

ミラノ大学物理学科、Via Celoria 16、20133、ミラノ、イタリア

ジョージ・ロッシ

分子科学およびナノシステム学科、ヴェニスカフォスカリ大学、30172、ヴェネツィア、イタリア

フレデリック・マッツォーラ

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SKC と PO は実験を考案し、原案を書きました。 SKC、SPC、FM がサンプルを成長させました。 SKC、SPC、SD は X 線回折によって構造特性を調査しました。 SKC はサンプルの輸送特性評価を実施しました。 SKC と JF は LEED および STM 実験を実施しました。 PR、MF、RC は HRTEM、SEM、EDS 実験を実施しました。著者全員がデータを分析し、結果を検証し、原稿をレビューしました。

Sandeep Kumar Chaluvadi または Pasquale Orgiani への通信。

著者らは競合する利害関係を宣言していません。

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転載と許可

Chaluvadi, SK、Punathum Chalil, S.、Mazzola, F. 他エキシマレーザーの実行可能な代替品としての Nd:YAG 赤外レーザー: YBCO のケーススタディ。 Sci Rep 13、3882 (2023)。 https://doi.org/10.1038/s41598-023-30887-3

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受信日: 2022 年 12 月 6 日

受理日: 2023 年 3 月 2 日

公開日: 2023 年 3 月 8 日

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エキシマ レーザーの実行可能な代替品としての Nd:YAG 赤外レーザー: YBCO のケーススタディ

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